真空蒸鍍膜玻璃法的種類(lèi)
為了使蒸發(fā)材料氣化，在真空蒸發(fā)過(guò)程中，大多數(shù)蒸發(fā)材料都必須在1100~1750C溫度下進(jìn)行蒸發(fā)，因此，必須採用各種加熱方法將蒸發(fā)材料加熱，通常把真空設(shè)備中對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行加熱的零件稱(chēng)為蒸發(fā)源。蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)源有多種形式，如電阻加熱源、電子東加熱源、高頻感應(yīng)加熱源等，大面積玻璃基片蒸發(fā)鍍膜常用電阻加熱源。
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